微米膜厚测量仪 C11011-21W

C11011-21W型光学微米膜厚测量仪利用激光干涉法原理,测量速度达60Hz,适用于产品线上在线测量。此外,与mapping工作台联用可以用于测量指定样品的厚度分布。C11011-21W应用广泛,比如用于产品制造过程监控或质量控制。


C11011-21W可测玻璃膜厚范围分别为25 μm 到2900 μm 和10 μm 到 1200 μm,可测层数最多为10层。

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详细参数 产品特性 外形尺寸(单位:mm)

详细参数

型号 C11011-21W
可测膜厚范围(玻璃) 25 μm to 2900 μm*1
光源 Infrared LD (1300 nm)
光斑尺寸 Approx. φ60 μm*4
工作距离 155 mm*4
可测层数 Max. 10 layers
分析 Peak detection
测量时间 22.2 ms/point*5
外部控制功能 RS-232C, Ethernet
电源 AC100 V to AC240 V, 50 Hz/60 Hz
功耗 Approx. 50 VA
接口 USB 2.0 (Main unit - Computer)
可测膜厚范围(硅) 10 μm to 1200 μm*2
测量可重复性(硅) 100 nm*3
测量准确度(硅) < 500 μm: ±0.5 μm, > 500 μm: ±0.1 %*3

* 1:玻璃折射率相同。

* 2:硅折射率相同。

* 3:测量硅时为标准偏差。

* 4:可选1000毫米工作距离的型号。 (型号C11011-01WL)

* 5:最短曝光时间。

产品特性

● 利用红外光度测定进行非透明样品测量


● 测量膜厚度范围(玻璃):25μm-2900μm


● 测量速度高达60 Hz


● 可测量层数:10层


● 测量带图纹晶圆或带保护膜的晶圆


● 工作距离长


● Mapping功能


● 可外部控制

外形尺寸(单位:mm)


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