PHEMOS，面向未来
PHEMOS-X 是一宽高分辨率发射显微镜，可通过检测缺陷引起的微弱光发射和热发射来精确定位半导体器件中的故障位置。
● 可安装两个超高灵敏度相机
覆盖发射分析和热分析或可见光和近红外光的不同检测波长范围，可以轻松选择与样品和故障模式相匹配的分析技术。
● 最多可安装 5 个用于 OBIRCH、DALS 和 EOP 的光源
● 配备适用于多种样品的光学平台
● 全新 1.35 倍微距镜头
适用于发射和激光分析
叠加显示/对比度增强功能
PHEMOS-X 将发射图像叠加在高分辨率图案图像上，以快速定位缺陷点。 对比度增强功能使图像更清晰、更细致。 显示功能
注释：注释、箭头和其他指示符可以显示在图像上所需的任何位置。
标尺显示：标尺宽度可以使用分段显示在图像上。
网格显示：图像上可以显示垂直和水平网格线。
缩略图显示：图像可以作为缩略图存储和调用，可以显示坐标等图像信息。
分屏显示：图案图像、发射图像、叠加图像和参考图像可以同时显示在6个窗口的屏幕上。
随着设备变得越来越复杂，越来越需要在 LSI 测试仪连接下进行分析，以发现设备运行时发生在特定点的故障。 可以通过短电缆将 LSI 测试仪与 PHEMOS-X 连接，并使用专为在 PHEMOS-X 光学器件下进行分析而设计的探针卡适配器。
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